Полимерный светочувствительный материал. Наносится на обрабатываемый материал в процессе фотолитографии или фотогравировки с целью получить соответствующее фотошаблону расположение окон для доступа травящих или иных веществ к поверхности обрабатываемого материала

Длина фоторезиста: 10 м, ширина: 0.3 м.

Применяется при:

• Изготовлении печатных плат
• Травлении
• Легировании
• Обратной фотолитографии
• Пескоструйной гравировки
• Герметизации
• Создании различных структур

Пленка отлично режется, поэтому Вы без труда сможете изготовить фоторезист необходимого размера.

В интернете Вы всегда сможете найти инструкцию по применения фоторезиста.